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光刻工艺研发工程师-TD Lithography Process Engineer(J17944)

ChangXin Memory (CXMT) · 安徽省·合肥市, 北京市

External listingFull-timeabout 2 months ago

About The Role

  1. 设计并执行光刻工艺实验（如涂胶、曝光、显影等），引入新材料、优化参数以提高分辨率、覆盖率和良率；
  2. 分析光刻过程中的缺陷和异常（如CD均匀性、套刻精度问题），使用思维导图，DOE等分析和实验工具进行根因分析，提出改进方案；
  3. 根据工艺需求，引入新材料验证提升工艺能力并降低成本；
  4. 操作和维护光刻设备（如ASML光刻机），确保设备高效运行，并与设备供应商协作进行技术升级；
  5. 收集、整理实验数据，利用数据分析工具（如Python、JMP）生成报告，支持工艺验证和决策；
  6. 与工艺整合、良率工程、设备工程等团队紧密合作，推动新工艺从研发到量产的转移；
  7. 跟踪行业最新光刻技术（如DUV、多重曝光），参与公司内部研发项目，贡献创新想法。
  8. 硕士及以上学历，半导体物理/微电子/材料科学或光学相关专业，博士优先；
  9. 3年以上半导体光刻工艺研发经验，有光刻设备操作（如ASML、Nikon）经验者优先；
  10. 熟悉半导体制造流程（如PFA、WAT、CP）精通光刻工艺原理及常见问题（如DOF、LER、LWR）；
  11. 熟练使用数据分析软件（如MATLAB、Python）和半导体检测设备；
  12. 优秀的分析、解决问题和沟通能力，学习能力强，对新挑战充满热情；
  13. 良好的英文读写能力，能阅读技术文档和专利。

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